중국 특허, 국내와 동시 출원해야 한다

내용, 외부 공개행위 ‘불가 판정’

2013-05-09     김임순 기자

중국에서 특허를 받기 위해서는 반드시 국내와 중국 동시에 출원해야 한다. 디자인권도 마찬가지로 특허를 받기 위해서는 반드시 지켜야 할 대목이다. 중국 특허청에 특허 출원을 하기 전까지는 해당 제품을 알리거나 외부 공개 행위를 우리나라든, 중국이든 절대 해서는 안 된다.

우리나라에서 특허를 받았다고 해서 특허제품을 외부에 공개(홍보, 제품 출시, 판매 등)하는 순간, 중국에서 특허받기는 불가능해지기 때문이다. 기본적으로 특허권을 획득하기 위해서는 어느 나라에서나 특허 취득을 위한 요건을 만족해야 한다. 중국에서도 마찬가지다. 신규성 및 진보성을 만족해야 특허권을 받을 수 있다.

그러나 우리나라 특허법을 비롯해 일부 국가에는 신규성 의제라 해서, 일정기간 동안 특허의 내용을 외부에 공개했다 하더라도 이유여하를 불문하고 신규성 의제(기존에 공개된 것이 아니라고 간주)로 해 줌으로써, 신규발명을 한 특허 출원자를 보호해주는 제도가 있다.

물론 중국에도 신규성 의제 제도가 있다. 다만, 그 내용을 보면, 신규성 의제의 인정범위가 매우 협소하다. 즉 중국정부가 주최 또는 승인한 국제박람회에서의 전시, 국무원/전국적 학술단체에서 소집한 학술회의 또는 기술회의에서의 발표, 출원인의 동의 없는 개시에 의한 공개에는 공지일로부터 6월 이내에 출원한 경우 인정된다고 규정하고 있다.

즉 공개를 했다고 해도 위에 명시된 내용을 만족하는 경우에만 중국에서 특허를 받을 수 있는 길이 열리는 것이다. 그러나, 실제 비즈니스 거래에서 이 같은 예외를 충족시키기는 거의 불가능하다고 보는 것이 중국 관련 한국 변리사들의 공통된 의견으로 밝혀졌다.

결론적으로 중국에서의 신규성 의제가 없다고 생각하고, 한국에서 특허출원을 진행 중이거나 특허를 받은 경우, 중국에서 특허를 받을 것을 염두에 두고 있다면 절대 특허 내용을 불특정 다수를 대상으로 공개하는 행위 등을 하지 않는 것이 유리하다. 특히 특허권자는 명심해야 할 것이라고 업계관계자는 강조했다.